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美国ACM RESEARCH 单晶圆清洗设备

产品/服务：
品 牌： ACM RESEARCH
有效期至： 长期有效
最后更新： 2025-02-15 16:26
单价：
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(发货期限：自买家付款之日起 3 天内发货)
公司基本资料信息






  • 详细说明
  • 规格参数
 美国ACM RESEARCH  单晶圆清洗设备
单晶圆清洗设备
• 沉积前清洗
 
• 蚀刻后清洗
 
• CMP后清洗
 
• RCA标准清洗
 
• W Loop后清洗
 
• Cu Loop后清洗
 
• 去除BEOL聚合物
 
• 深层Trench/Via清洗
 
• 薄膜去除
 
• TSV后清洗
 
• EPI前清洗
 
• ALD前清洗
 
 

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