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美国ACM RESEARCH 背面清洗设备

产品/服务:
品 牌: ACM RESEARCH
有效期至: 长期有效
最后更新: 2024-10-15 14:03
单价:
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公司基本资料信息






  • 详细说明
  • 规格参数
 美国ACM RESEARCH  背面清洗设备
主要优势
由伯努利夹盘对晶圆背面进行全面保护
药液回收功能可降低成本
可集成氮气二流体清洗功能
可灵活应用于湿法刻蚀工艺,如硅蚀刻及薄膜蚀刻工艺
进的喷嘴扫描系统
精密的湿法刻蚀均匀度控制
精密的化学药液供给
可灵活应用于多种衬底材料,包括重掺杂片、Bonding 片、超薄片等
特征规格
多可配至8套清洗腔体
配备晶圆翻转单元
多可配至5种药液进行清洗工艺或者湿法刻蚀工艺, RCA 药液, 氢氟酸,氢氟酸/硝酸混合液, 配方药液等
伯努利夹盘可对晶片背面全面保护
多可回收2种化学药液
 
 
 
 
 
 

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