美国ACM RESEARCH 单片清洗设备
主要优势
清洗药液独立控制,无交叉污染
喷嘴精确控制系统
准确的化学药液供给
较低的使用成本
优质清洗效果
可应用不同种晶圆清洗工艺
高产出
对小颗粒的管控和金属管控能力
特性和规格
多可配置8套清洗腔体
多可配置5种药液进行清洗工艺,RCA药液,氢氟酸,臭氧水,去离子水等。
可对基板片,外延片的清洗工艺
产品/服务: | |
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品 牌: | ACM RESEARCH |
有效期至: | 长期有效 |
最后更新: | 2024-10-15 14:03 |
(发货期限:自买家付款之日起 3 天内发货)
品牌: | ACM RESEARCH |
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