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美国ACM RESEARCH 无应力抛光设备

产品/服务：
品 牌： ACM RESEARCH
有效期至： 长期有效
最后更新： 2025-02-15 16:26
单价：
面议
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(发货期限：自买家付款之日起 3 天内发货)
公司基本资料信息






  • 详细说明
  • 规格参数
 美国ACM RESEARCH  无应力抛光设备
主要优势
工艺过程低应力
低耗材成本COC和运营成本COO
低排放可保护环境
特性和规格
整合了无应力抛光、化学机械研磨、湿法刻蚀、干法刻蚀工艺
电抛光液和湿法刻蚀液可实时循环使用
减少化学和耗材使用量
设备尺寸（mm）：4100(长)*2600(宽)*2650(高)
 

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