快捷方式：发布信息| 收藏公司

美国ACM RESEARCH SAPS兆声波清洗设备

产品/服务：
品 牌： ACM RESEARCH
有效期至： 长期有效
最后更新： 2024-10-15 14:03
单价：
面议
立即询价

(发货期限：自买家付款之日起 3 天内发货)
公司基本资料信息






  • 详细说明
  • 规格参数
 美国ACM RESEARCH  SAPS兆声波清洗设备
SAPS兆声波清洗设备
• 深沟道清洗
• CMP 后清洗
• Hard Mask 沉积后清洗
• Contact/Via 刻蚀后清洗
• Barrier metal沉积前清洗
• 晶圆回收清洗
• EPI沉积前清洗
• ALD沉积前清洗
特性和规格（Ultra C SAPS II）
多可配至8个腔体，产能225WPH
双面清洗， 多可配5种清洗药液, 如. DHF SC1, SC2, DIO3, BOE, Solvent, HF/HNO3…
多可回收两种药液
集成式药液供给模块
设备体积小：2.35m x 5.53m x 2.85m （宽x长x高）
 
 
 
 

同类产品推荐

查看更多同类供应产品
上一组 下一组

您可以通过以下类目找到类似信息：

 

免责声明：以上所展示的信息由会员自行提供，内容的真实性、准确性和合法性由发布会员负责。仪器仪表网对此不承担任何责任。

友情提醒：为规避购买风险，建议您在购买相关产品前务必确认供应商资质及产品质量！